電鏡年會緊急通知
2011-08-30 “2011年全國材料年會掃描電子顯微學分會場”通知 2011年全國材料科學電子顯微學會議于2011年10月23-29日在四川省成都市召開。 為推動我國掃描電子顯微學的進步，提高廣大掃描電子顯微學工作者的學術及技術水平，充分發揮國家科技投入的效益，促進掃描電子顯微學在材料科學、地礦和工程技術等領域的發展，中國電子顯微鏡學會決定在2011年召開的全國材料科學電子顯微學會議設立掃描電鏡在材料科學與技術領域中的應用分會場。 會議報告內容： （1）掃描電子顯微學在材料科學，化學化工及地學等方面的應用成果。 （2）掃描電子顯微學在失效分析，刑偵，考古及集成電路生產等方面的應用成果。 （3）EBSD技術在材料科學與技術、地質科學與技術、微電子及信息產業、半導體科技等領域的應用。 （4）掃描電鏡樣品制樣技術及經驗總結。 （5）掃描電鏡及有關儀器理論，研制及生產成果。儀器管理使用，改進及維修方面的經驗。 （6）掃描探針顯微鏡（掃描隧道/原子力顯微鏡），共聚焦激光掃描電鏡的進展及應用。 （7）圖像處理及分析技術。 分會場將以報告，專題討論，論文展示（poster），照片展示及評獎等多種形式進行。 由于時間臨近會議，考慮到投稿已來不及（會議通知年初即發，有些專家學者對議會場的設立不是很清楚），請各位參會學者將工作以（poster）的形式展示給大家。 會議時間、地點請看中國電鏡網（www.china-em.cn）2011年全國材料科學電子顯微學會議通知（第二輪）。 歡迎從事掃描電子顯微學工作的專家學者參會。
